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控制系统



          ★  国产设备:  用于国产卧式/立式氧化扩散炉，LPCVD炉升级改造

        ★  进口设备:  用于日本TEL,KE,美国BTU/BTI等进口卧式/立式氧化扩散炉，

                             LPCVD炉汉化升级改造


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半导体工艺设备
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水平氧化扩散炉



集成电路   制造：CMOS棚极氧化、存储器芯片介质层生长、DRAM电容介质形成

功率半导体制造：IG8T器件的场氧生长、MOSFET棚极氧化层制备、功率二极管PN结形成

新型半导体材料：5iC器件栅氧生长、GaN器件表面纯化、三代半导体材料掺杂工艺

MEMS     制造：MEMS结构层的热氧化，传感器介质层制备、微机械结构的掺杂工艺









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周一至周日  24H
官方邮箱：goldliton@126.com
地        址：中国青岛（上合示范区）新东路6号




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