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水平LPCVD设备
★集成电路制造: 多晶硅栅极沉积、氮化硅钝化层沉积、二氧化硅介质层沉积 ★功率半导体制造: SiC器件的钝化层沉积、GaN器件的介质层制备 ★MEMS制造: MEMS结构层的薄膜沉积、传感器的保护层制备 ★ 新型材料研发: 二维材料(如石墨烯、碳纳米管)的薄膜沉积、第三代半导体的钝化层制备 ★ 精密医疗器件制造: 在微型医疗器械表面沉积绝缘薄膜或导电薄膜，实现器件电学绝缘，导电或传感功能 
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